Opsis | Sintrol

Opsis

Opsis prosessinohjaus

Opsiksen järjestelmä, joka käyttää UV/FTIR DOAS ja TLD teknologioita kosketuksettomaan, läpikanavan monikaasumittaukseen on maailmanlaajuisesti käytetty ja kansainvälisesti sertifioitu

Lue lisää

Opsis

DX100 – Dioksiinin, furaanin ja hiilidioksidin näytteenottojärjestelmä

Dioksiinit ovat yksi maailman myrkyllisimmistä aineista, myös erittäin pieninä pitoisuuksina. Niitä muodostuu teollisissa polttoprosesseissa…

Lue lisää

Opsis

Opsis O2000 Insitu happianalysaattori

Opsis O2000 on Insitu happianalysaattori päästöjen mittaamiseen savukaasussa ja prosessinhallintaan teollisissa sovelluksissa

Lue lisää

Opsis

Päästömittausjärjestelmä Opsis

Opsis päästömittausjärjestelmät on suunniteltu toimimaan vaativissa prosessiolosuhteissa ja ne ovat kansainvälisesti sertifoitu ja hyväksytty. Lue lisää.

Lue lisää

Opsis

Elohopean jatkuvatoimiset analyysilaitteistot

Kayttökohteet: jätteenpoltto- ja voimalaitokset uuden WI BREFin mukaan, rinnakkaispolttolaitokset ja muut vastaavat.

Lue lisää

Opsis

MercuryMan jatkuvaan Hg-mittaukseen

Opsis MercuryMan on suunniteltu jatkuvaan Hg-mittaukseen esimerkiksi voima- ja jätteenpolttolaitoksissa

Lue lisää

Opsis

Elohopea-analysaattori

Opsiksen DOAS - periaatteeseen perustuvalla insitu-mittausmenetelmällä kaasu mitataan läpikanavan tekniikalla.

Lue lisää

Opsis

AQM ilmanlaadun valvontajärjestelmä

Opsiksen IR/FTIR DOAS-tekniikkaan perustuvat ilmanlaadun valvontajärjestelmät tarjoavat ratkaisun, jonka kosketukseton, avoimen polun monikaasumittaus takaa matalat omistuskustannukset ja tarkat mittaustulokset.

Lue lisää

Opsis

EnviMan ilmanlaadunvalvonta ohjelma

Opsiksen EnviMan-ohjelmistopaketti on jatkuvasti kehittyvä nykyaikainen työkalu ilmanlaadunvalvontaan

Lue lisää

Opsis

Laivateollisuuden päästömittaus

Opsiksen DNV-GL tyyppihyväksytty meripuolen M800 järjestelmä mittaa SO2 ja CO2 pitoisuudet käyttäen referenssimenetelmiä NDUV ja NDIR

Lue lisää

Opsis

SM 200 pölymittaus

Laiteella voidaan tehdä sekä näytteenotto myöhempää analysointia varten että jatkuvatoiminen 8 - 24h keskiarvomittaus sekä laserdiffraktioon perustuva online mittaus

Lue lisää